台积电 2nm 泄密案宣判，最高判 14 年

台积电2nm核心技术泄密案有了新进展，该案将于4月27日正式宣判，涉事人员最高面临14年有期徒刑，另有2名被告被裁定延长羁押，引发半导体行业高度关注。

据悉，台积电离职工程师陈力铭、在职工程师吴秉骏、戈一平，因涉嫌泄露公司2nm关键技术，被中国台湾检方依违反安全法等罪名起诉，目前知识产权及商业法院已完成辩论，定于4月27日上午11时宣判，同时要求吴秉骏、戈一平到庭聆判。

中国台湾高检署知识产权检察分署起诉指出，陈力铭曾任职于台积电12厂良率部门，离职后进入台积电半导体制造设备供应商TEL行销部门。2023年至2025年上半年，为帮助TEL争取台积电先进制程更多站点设备供应资格，他多次要求当时在职的吴秉骏、戈一平，提供2nm制程关键技术与营业秘密，拍摄重制后用于TEL改善蚀刻机台表现，进而争夺台积电2nm制程蚀刻站点量产机台供应权。

台积电察觉内部技术异常后启动调查，怀疑有在职与离职员工非法获取核心技术及营业秘密，于2025年7月8日正式提出告诉。同年7月25日至28日，检察官指挥调查局开展搜索、约谈工作，随后将陈力铭、吴秉骏、戈一平依法声请羁押禁见并获得批准。

2025年8月27日，知识产权分署正式起诉3人，罪名包括营业秘密法意图域外使用而窃取营业秘密罪、窃取营业秘密罪、安全法核心关键技术营业秘密之域外使用罪，其中求处陈力铭有期徒刑14年、吴秉骏9年、戈一平7年。

案件侦查期间，检方进一步查出，陈力铭于2024年5月，涉嫌指使前台积电工程师陈韦杰，用手机偷拍数十张涉及2nm制程原料与设备技术的机密资料。事件曝光后，TEL一名卢姓行销经理疑似为掩盖证据，删除了云端硬盘内的台积电机密资料。

检方随即追加起诉陈力铭、陈韦杰、卢姓经理及TEL公司，罪名涉及安全法及湮灭刑事证据罪，分别求处陈力铭7年徒刑、陈韦杰8年8个月徒刑、卢姓经理1年徒刑，同时求处TEL公司罚金2500万元新台币。今年1月，检方提起第二次公诉，陈韦杰移审后也被裁定续押。

此外，检方考量陈韦杰否认犯罪，供词前后不一、避重就轻，且案件仍需勾稽比对相关证据，担心陈力铭、陈韦杰相互勾串或湮灭证据，裁定两人分别自4月1日、4月8日起，延长羁押2个月并禁止接见通信。

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